台湾专利TW201321877A 液晶顯示裝置

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专利摘要:
一種反射型顯示裝置，包含一個像素結構和一個內含某種染料之液晶。該像素結構，可對該液晶提供一種第一傾斜狀態和一種第二傾斜狀態，彼等在未施加電場下會很穩定。在該第一傾斜狀態中，該液晶係在一種未經扭曲之組態中。在該第二傾斜狀態中，該液晶係在一種被扭曲之組態中，以及該染料具有之有效吸光率，係高於該染料在該液晶處於該第一傾斜狀態中時之有效吸光率。
公开号:TW201321877A
申请号:TW101140119
申请日:2012-10-30
公开日:2013-06-01
发明作者:Stephen Kitson；Mario Ariosto Matranga；Timothy Taphouse；Daniel M Younger；Christopher Newton
申请人:Hewlett Packard Development Co；
IPC主号:G02F1-00

专利说明:
液晶顯示裝置
本發明係有關於液晶顯示裝置。發明背景
當前之反射型顯示器技術，很難提供一些明亮高對比之彩色影像。通常，此種顯示器技術有關議題之一是，彼等大多數需要一種在該顯示區域內的每個像素處有一個電晶體之主動型矩陣。該等電晶體和相關聯之連線和電極，會縮減該顯示器之光學孔徑，以及因而會降低所反射光波之亮度。雙穩態液晶顯示器，能夠採用一種被動型矩陣，來控制每個像素之光電效應，以及提供一個較大之孔徑，給所反射之光波，蓋在該顯示區域內，並不需要電晶體故也。此外，在某些組態中，彼等雙穩態液晶顯示器，能夠大幅地降低耗電量，特別是在長時間顯示同一影像之下。然而，彼等雙穩態系統，普遍僅使用入射光的一個偏極化光，以及會使用一些偏光板，彼等會使一個反射型顯示器之亮度至少縮減一半。此外，當前之雙穩態顯示器，並未提供一個充份之動態範圍，來顯示一個高畫質彩色影像。
依據本發明的一個實施例，特別提出一種反射型顯示器裝置，其包含：一個內含一種染料之液晶；和一個像素結構，其在晶元間隙內包含有該液晶，其中：該像素結構可對該液晶材料，提供一個第一傾斜狀態和一個第二傾斜狀態，彼等在無電場施加下會很穩定；在該第一傾斜狀態中，該液晶係在一種未經扭曲之組態中；以及在該第二傾斜狀態中，該液晶係在一種扭曲之組態中，其中，該液晶可定向該染料，使就光波吸收建立一個印記樣式，以及該染料具有一個有效吸光率，其係高於該染料於該液晶在該第一傾斜狀態中時之有效吸光率。
100‧‧‧顯示器
110‧‧‧列電極
112‧‧‧列驅動器電路
120‧‧‧行電極
122‧‧‧行驅動器電路
200‧‧‧像素結構，天頂雙穩態裝置
210‧‧‧液晶
220‧‧‧微觀結構或光柵
230‧‧‧固位層
310‧‧‧區域
320‧‧‧印記樣式
400‧‧‧像素結構，電泳粒子受控式向列裝置
420‧‧‧電泳粒子
430‧‧‧第二固位層
435‧‧‧第一固位層
500‧‧‧像素結構，後配列雙穩態向列式裝置
520,530‧‧‧固位層
522‧‧‧微柱，微結構
圖1顯示一個採用一種被動型矩陣之顯示器；圖2A和2B顯示一個天頂雙穩態裝置(ZBD)像素結構之橫截面圖，以及係示意例示該像素結構中之液晶分子的兩種穩定傾斜狀態；圖3例示一個像素結構之均一垂直狀態和該像素結構之紋理狀更多平面形的狀態之視覺外觀間的差異；圖4A和4B顯示一個電泳粒子受控式向列(EPCN)像素結構之橫截面圖，以及係示意例示該像素結構中之液晶分子的兩種穩定傾斜狀態；而圖5則顯示一個後配列雙穩態向列式(PABN)像素結構之透視圖。
在不同之繪圖中，使用相同之參考符號，係指明相似或相同之項目。詳細說明
一種反射型液晶顯示器，提供了一個高動態範圍，以及適用於高品質彩色影像。在一個安排中，一個顯示裝置或像素結構，採用了一個摻雜有對掌添加劑之液晶(LC)，和一個可使該LC在兩個具不同傾斜角度之穩定狀態間切換的像素結構。該對掌添加劑之濃度和該像素結構之排列，係使在一種傾斜狀態中，令該LC具有均一垂直未經扭曲之組態，而在另一種傾斜狀態中，令該LC為更多平面形，以及具有一個扭曲之組態。該垂直傾斜狀態，可極小化一個染料(舉例而言，二向色性或多向色性染料)與該LC相關聯之效應。該經扭曲之結構，可能對該染料之效應提供一種組織，以及無論有無該組織與否，該經扭曲之組態，會提供比起該染料和LC分子未經扭曲之排列或具更高的對比。
以濃度在某一臨界範圍內之對掌添加劑來攙雜該LC，特別能提高一個內含某一二向色性或多向色性染料之反射型像素結構的動態範圍。添加一個對掌摻雜劑，有益之方式有二。首先，該更多平面形之LC狀態的組態會變成扭曲，以及此可確保該染料吸收入射光之兩者偏極化光，而使黑暗狀態更加黑暗。其次，該扭曲組態之對掌性，可於一個像素結構在更多平面形之傾斜狀態中時，改善該等LC和染料之平均平面性，因為該對掌材料係具有自然之扭曲趨勢，以及一個平面定向係具有能量上之優勢，亦即，具有較低之電位能。此可使切換該傾斜角度之效應被放大，特別是就一個僅僅在一個表面處切換該傾斜狀態之像素結構而言，以及可在該更多平面形之狀態中，使更多的LC變成平面形。若該LC中納入了過多之對掌添加劑，則該垂直狀態亦將會被瓦解且變暗，故一般可能希望添加仍可維持該未經扭曲之垂直狀態的最大量對掌添加劑。就大部份之實際材料而言，此一限制係當該間距貼近該晶元間隙之時。
一個LC經扭曲及未經扭曲之組態，可基於該LC之導向器場加以區分。更明確而言，該LC通常係由非對稱分子製成，其中包括桿形或圓盤形分子結構。該LC係處於向列相位中，其中，該等非對稱分子結構，傾向於彼此配列，但另外係呈無序狀。該LC中之任一點處的導向器，可被界定為一個單位向量，其具有之方向，係對應於該點處之LC的非對稱分子結構之平均配列方向。在該未經扭曲之組態中，該導向器大部份係呈垂直，以及該導向器並無特定之轉軸。在該扭曲之組態中，該材料具有該導向器繞曲或扭曲所繞的一個獨特軸線。
圖1顯示一個採用一種被動型矩陣架構之反射型顯示器100的簡化平面圖。該顯示器100具有多重之平行列電極110和多重橫越列電極110之平行行電極120。該等列電極110和行電極120，係分別連接至一個列驅動器電路112和一個行驅動器電路122。該等列驅動器電路112和行驅動器電路122經調適，可分別供應電壓給該等列電極110和行電極120，以改變位於該等列電極110和行電極120相交越及相重疊之區域內的像素結構之狀態。在一些不同之佈置中，該等列電極110或該等行電極120，可使最貼近該顯示器100之顯示表面，以及係由某一透明導電材料製成，諸如銦錫氧化物(ITO)、氟摻雜式錫氧化物(FTO)、摻雜式鋅氧化物、或PEDOT PSS。該等離該顯示表面最遠之電極120或110，可能具有高度之反射性，可能具有某一高度反射性塗料，或者可能呈透明而受到一個反射鏡之支撐。藉由此一佈置，該顯示表面處之入射光，會行經該等透明電極110或120和該等電極110和120間之晶元間隙，會自與該等電極120或110相聯結之反射表面反射，以及會回頭行經該晶元間隙和該等透明電極110或120，而自該顯示表面出來。
該顯示器100中之每一像素結構內的晶元間隙，包含一些液晶，彼等係摻雜有一種染料，舉例而言，一種二向色性或多向色性染料，彼等係呈非對稱性，以及採用了一種取決於該液晶之配列的配列。結果，重新定向該LC，亦重新定向該染料，以致若有白色光入射至該像素結構上面，該像素結構所發出之反射光波的色彩，係取決於該染料之色彩和該晶元間隙內之染料/LC的定向。誠如本技藝中所習見，不同色彩之多重像素結構，可共同加以運作，以形成一個彩色圖像元素。舉例而言，就加成式色彩而言，三個或四個像素結構(舉例而言，一個內含某一紅色染料、色素、或過濾器之像素結構，一個內含某一藍色染料、色素、或過濾器之像素結構，和一個或兩個內含某一綠色染料、色素、或過濾器之像素結構)可使水平排列，以及在運作上可集體對人類視覺產生一個寬範圍之明顯色彩。就色素/LC從/主系統中之減成性色彩而言，一個彩色像素可能包含三層，彼等係垂直排列，以及係分別使用藍綠色、紅紫色、和黃色色素作為原色。一些使用其他數目或色彩組合或佈置之子像素的像素結構，亦可加以使用。
該顯示器100的一個範例性組態中之像素結構，係屬雙穩態，以及能夠使LC在兩個穩定傾斜配列或狀態之間切換。在一種傾斜狀態中，該導向器大部份呈垂直，以及在另一種傾斜狀態中，該導向器係呈更多平面形。誠如上文所述，該LC係摻雜有某一類型之染料，舉例而言，二向色性或多向色性染料，以致該垂直狀態會顯現明亮，因為該染料吸收很少或無光波。該更多平面形之狀態會顯現黑暗，因為該染料會吸收某一頻率或一些與該染料相關聯之頻率的更多光波。通常，一些雙穩態像素結構更多平面形之狀態，並不會完全呈平面，故該染料並不會達成最大可能之吸光率。舉例而言，在一個包含某一微結構裝置或光柵而使LC傾斜狀態穩定之像素結構中，該等LC之傾斜角度，通常僅會在該像素結構之一表面或電極處改變，而在該兩傾斜狀態之間，產生平均大約45度之最大傾斜角度差。誠如下文進一步之說明，該顯示器100中之像素結構，包含一些具某一特定比例或濃度之對掌添加劑的LC，而在該垂直傾斜狀態中，該導向器係均勻排列及定向，以致該染料針對行經該像素結構之光波，具有很小或無效應，但在該更多平面形之傾斜狀態中，該導向器場會瓦解成一種扭曲組態，其中，該對掌添加劑之螺旋性質，可控制該等LC和染料之定向和樣式。在某些像素結構中，該等LC在該扭曲組態中之樣式，可提供一種供該染料吸收之印記組織。該扭曲組態，比起該等LC/染料在該更多平面形傾斜狀態中時及在一個未經扭曲之組態中所為，可提供來自該染料之較大光學效應或吸光率。
圖2A和2B例示一個像素結構200，其包含部份之電極110和120、一個在該等電極110與120間之晶元間隙內的液晶210、一個微結構或光柵220、和一個位層230。該等光柵220與固位層230間之晶元間隙，包含一層液晶210，其可能大約為3至10μm厚，或者更可能的是大約為5至7μm厚。一個範例性組態中之像素結構200，為一個天頂雙穩態裝置(ZBD)，其可被圖1之顯示器100的每個像素用來形成一個ZBD顯示器。就一個ZBD而言，該光柵220經樣式化，可使該液晶210之傾斜狀態穩定。特言之，該光柵220經處理，可在該光柵220之表面處，產生垂直配向配列，或者可由一種天生會在該光柵220之表面處產生該LC210之垂直配向配列的材料製成。該光柵220之表面的樣式或塑型，因而會使該LC 210之配列變形。該LC 210係一種彈性媒介，以及在該光柵220之適當設計下，會有兩種狀態存在，舉例而言，該LC 210之傾斜狀態，其可滿足該等光柵220和固位層230所強加之邊界條件。每一狀態可能係呈穩定，以致該狀態可持續存在，而毋須施加電壓。圖2A和2B之組態中的固位層230，可提供該LC 210之垂直配向固位，亦即，該薄層230可使該LC 210之導向器，與該薄層230之表面正交，以及因而垂直於該薄層230之表面。一些可應用至該等光柵220和固位層230之標準垂直配向處理，包括鉻錯合物、卵磷脂、垂直配向聚醯亞胺、矽烷基材料(舉例而言，DMOAP)、界面活性劑、和矽氧化物澱積物，以提供一個液晶類似E7、5CB、和zli2293之垂直配向固位，或一個類似zli-4788-000和MBBA之負介電各向異性LC材料。
該光柵220可如上文所說明加以整形或樣式化，就該光柵220之每一部分與該固位層230之對應部分間的LC 210而言，可存在兩個穩定之導向器場組態。圖2A顯示一個垂直傾斜狀態中之LC 210，以及圖2B顯示一個更多平面形之狀態中的LC 210。在該垂直傾斜狀態中，該LC 210之導向器場，在該等光柵220和固位層230兩者之表面處大體上係呈垂直，以及貫穿過該晶元間隙。在該更多平面形之傾斜狀態中，該光柵220處之導向器場，大體上可能係呈水平，而該固位表面230附近之導向器場會保持垂直。該像素200可(舉例而言，藉由列和行驅動器電路112和122)透過該等電極110和120，施加一個足夠大小和期間之電壓脈波，而在圖2A和2B之傾斜狀態間切換。一個足以在傾斜狀態間切換之脈波的特定電壓和期間，通常取決於該像素結構200之特定結構，以及特別是該光柵220之樣式。在圖2A和2B中，該等對應之傾斜狀態，係橫跨該像素結構200之區域呈均勻。更一般而言，該光柵220可能包括一些變更形式，彼等可就該像素結構200之不同區域內的傾斜狀態之切換，提供不同之臨界值，以致該像素結構200，可能會同時包括一些在不同傾斜狀態中之區域。因此，該像素結構200在圖2A或2B的傾斜狀態中之區域的百分比可能會被改變，而在該像素結構200中，提供某一範圍之平均吸光率。
現代可能被用作該LC210之液晶材料，通常係藉由混合許多可共同提供所想要之性質的不同成分製成，以及明確而言，該LC 210的一個或多個成分可能為對掌物，以提供所想要瓦解成該扭曲狀態之傾向。然而，有一些材料可能天生具有某些像素結構所想要之對掌性質。在一個特定之範例中，該LC 210係一個向列式LC，其摻雜有一個對掌添加劑，而使該LC 210傾向於形成一個螺旋狀結構。該等向列式LC和對掌添加劑，當前係可得自多方之商業來源。一個適當的向列式LC之範例，為得自Merck KGaA之zli2293，以及一個對掌添加劑之範例，亦為得自Merck KGaA之zli811。添加一個對掌添加劑至該向列式LC，可給予該LC 210一個取決於該對掌添加劑之濃度的螺旋間距。該LC 210之螺旋狀間距，通常係反比於該對掌添加劑之濃度與該對掌添加劑之螺旋扭曲率的乘積。在該像素結構200中，該對掌添加劑之濃度在選擇上，可能係使該LC 210之螺旋間距，與該像素結構200中之LC層的厚度相當(亦即，相當於該晶元間隙)。舉例而言，該晶元間隙對該LC 210之螺旋間距的比率，可能係在一個大約自0.8至1.3之範圍內，或者大約自0.9至1.1之範圍內。結果，圖2B之更多平面形的傾斜狀態中之LC 210，會瓦解成一個可能對與該LC相聯結之染料的效應提供一種印記組織之扭曲組態。此扭曲組態會展現出一種錯合3D結構，其中，該螺旋體大體上係位於該像素結構200之平面中。
該LC 210中之對掌摻雜劑的濃度，決定了該LC 210之螺旋間距，以及理應在一個想要執行之臨界濃度範圍內。若該對掌摻雜劑之濃度太低，圖2B之更多平面形的狀態，可能不會形成該錯合3D結構，以及因而可能不會提供如圖2A之垂直狀態一樣高之對比。隨著該對掌摻雜劑之濃度的增加，該平面狀之狀態，會首先開始展現一些指狀物和一個印記樣式。就較高之濃度而言，或者倘若該LC在該光柵220為更多平面形，該等指狀物會變得填塞更緊，以及最後會消失。然而，在該更多平面形之狀態中，由於該LC 210之扭曲組態所致，該LC 210會保持平面狀直至進入該晶元(亦即，該導向器場近乎平面之區域，係自該光柵220進一步延伸)。若該對掌摻雜劑之濃度太高，圖2A之垂直狀態會變得不穩定，以及該LC 210在該垂直狀態中，加上在該水平狀態中，會瓦解成一個扭曲組態。該對掌添加劑之濃度所想要的範圍，係以某一濃度為中心，以致該LC之螺旋間距，會貼近該像素結構200中之間隙。該像素結構200中之對掌添加劑的濃度範圍，通常取決於該LC 210中所用之特定液晶，和所使用之對掌添加劑。在一個範例中，該液晶層210，為具有某一濃度之對掌添加劑zli811的zli2293，以致該LC之對掌間距，貼近該像素結構200中之間隙。就一個大約5μm厚之液晶層而言，可能使用的是濃度為1.5%至1.8%重量比的zli811，其係相當於1.02-1.22之間距/晶元間隙比。
圖3例示圖2A和2B之傾斜狀態中的像素結構200之典型光學性質。特言之，在圖2A之狀態中，該像素結構200，具有清晰或明亮外觀之區域310。在圖2B之狀態中，該像素結構200，具有一個如同在區域320中之印記組織的外觀，其中，一些黑暗區域，係相當於該LC 210中之染料所為之強吸光率，以及會呈現一些使較淡區域分開之條帶或線條。該等共同可就光波之吸收而造成印記樣式的LC 210和相聯結之染料的扭曲組態，已發現會顯著提高該像素結構200之更多平面形的傾斜狀態之吸光率。誠如上文可注意到的是，該對掌添加劑之較高濃度，或一個更多平面形之傾斜狀態，傾向於提供一個較密或較細之印記樣式或一個仍可提供一個具有該垂直傾斜狀態之改良式對比的平滑分佈，倘若該濃度並未高至使該垂直傾斜狀態亦自發地變遷至一個扭曲組態。實際上，就一個可控制該LC之更多平面形的傾斜狀態之特定光柵或像素結構表面而言，上述仍保有該垂直狀態之最高實際的對掌摻雜劑濃度，可能會提供該最佳之對比。對比中之進一步提昇，可源自使該光柵表面220處和因而在該LC 210之本體中的扭曲組態愈加平坦。該平面性之增加，亦會使該印記樣式較細緻，直至最終消失為止。
使用一個更多平面形之傾斜狀態的扭曲組態來改善該等垂直狀態與更多平面形之狀態間的對比，係可應用至某一範圍之顯示裝置，以及特別是一些在該配列表面中具有某一非對稱性-亦即，在兩個表面上具有不同之配列條件-之顯示裝置。舉例而言，圖4A和4B顯示一個包含一個液晶210和一些可穩定該LC 210的兩個傾斜狀態之電泳粒子420的像素結構400之橫截面圖。該像素結構400，可被使用在圖1之被動性矩陣架構中，以形成一個顯示器(一些使用圖4A和4B中所例示之類型的像素結構之顯示器，有時係被稱為電泳粒子受控式向列顯示器或EPCN顯示器)。該LC 210係在兩個位層430與435之間。該固位層430可提供該LC 210之垂直配向固位，以及可由某一適當之材料形成，或者使具有一個如上文所說明之扭曲表面。該固位層435可提供該LC 210之平行配向固位，亦即，該薄層435係使該LC 210之導向器平行於該薄層435之表面處的薄層435之表面。該固位層435，可由一個類似聚醯亞胺、聚四氟乙烯(鐵氟龍)或其他氟聚合物、PVA、或蒸鍍式矽氧化物之材料製成，其可提供該LC之平行配向固位，諸如E7、5CB、zli2293、zli4788000、或MBBA，姑略舉一二。一些施加至該等電極110和120之電氣信號，可朝向該等薄層430或435移動該等電泳粒子420。特言之，圖4A顯示一個傾斜狀態，其中，該等粒子420係毗鄰該薄層430，以及會瓦解該薄層430附近之導向器場。結果，圖4A之狀態中的LC 210，大部份具有一個垂直定向。相形之下，圖4B顯示一個狀態，其中，該等粒子420係毗鄰該薄層435，以及圖4B之狀態中的LC 210為更多平面形。當所使用為一個向列液晶時，該像素結構400之傾斜狀態，具有一些與微結構穩定化顯示器之傾斜狀態相類似的性質，其中，該等傾斜角度中之差異，係不足以達成一個高動態範圍反射型顯示器。因此，該LC 210之對掌添加劑的濃度會被選擇，以致在圖4A之垂直狀態，在該LC 210的一個未經扭曲之組態中時，圖4B之更多平面形之傾斜狀態，會形成該LC 210的一個扭曲組態。
上文所描述之像素構成200和400，為一些特定之雙穩態裝置的範例。圖5顯示另一個範例，其為一個後配列雙穩態向列式(PABN)顯示器有關之像素結構500。該像素結構500包含一個夾在兩個位層520與530之表面間的LC材料210。該固位層530具有一個有垂直配向固位之平面狀表面，而該固位層520包含一個具平行配向固位之微柱522的陣列。該微柱522之平行配向固位，可提供兩個穩定之傾斜狀態。在一種傾斜狀態中，該LC 210係垂直指向該等微柱522之側部。在另一個傾斜狀態中，該LC 210係更多水平指向每個微桂之周緣四周。因此，使該像素結構500自該垂直傾斜狀態至該更多平面形之傾斜狀態的切換，多半會使一側處之LC 210-亦即，最貼近之薄層520的LC 210-的導向器場切換。一些平面狀電極，舉例而言，該等電極110和120，可使位於圖5所例示之結構的上方和下方，以便在該像素結構500的兩個傾斜狀態之間切換。誠如上文所述，除該染料外，該LC 210包含某一濃度之對掌添加劑，而使該LC 210在該垂直傾斜狀態中，具有一個未經扭曲之組態，以及在該更多平面形之傾斜狀態中，具有一個扭曲之組態。
如今在使用中或經建議的，有一些有關反射型顯示器之其他技術，以及一般而言，本說明書所說明之原理，可能會被用來改善對比，其係藉由改善該染料之效應，諸如二向色性或多向色性染料，該染料在一個標稱平行傾斜狀態中與該LC相聯結時，係具有一些方向上之特性。特言之，一些使用一個LC之傾斜狀態的雙穩態顯示器，通常具有一些有限之動態範圍，因為該兩傾斜狀態間之傾斜角度中的差異，係典型地不會接近90°之理論極大值。使用一個具有某一對掌添加劑之LC，僅就該較黑暗之傾斜狀態，使該LC組態瓦解成一個扭曲組態，通常可改善大多數類型之雙穩態顯示器有關的動態範圍。
雖然已揭示了一些特定之實現體，此等實現體僅為一些範例，以及不應被視為有限制意。所揭示之實現體的特徵之各種調適和組合，係在以下申請專利範圍之界定範圍內。
310‧‧‧區域
320‧‧‧印記樣式

权利要求:
Claims (15)
[1] 一種反射型顯示器裝置，其包含：一個內含一種染料之液晶；和一個像素結構，其在晶元間隙內包含有該液晶，其中：該像素結構可對該液晶材料，提供一個第一傾斜狀態和一個第二傾斜狀態，彼等在無電場施加下會很穩定；在該第一傾斜狀態中，該液晶係在一種未經扭曲之組態中；以及在該第二傾斜狀態中，該液晶係在一種扭曲之組態中，其中，該液晶可定向該染料，使就光波吸收建立一個印記樣式，以及該染料具有一個有效吸光率，其係高於該染料於該液晶在該第一傾斜狀態中時之有效吸光率。
[2] 如申請專利範圍第1項之裝置，其中，該液晶具有一種為該晶元間隙之厚度的0.8與1.3間之倍數的螺旋間距。
[3] 如申請專利範圍第1項之裝置，其中，該液晶具有一種為該晶元間隙之厚度的0.9與1.1間之倍數的螺旋間距。
[4] 如申請專利範圍第1項之裝置，其中，該像素結構係選自由一個天頂雙穩態裝置、一個電泳粒子受控式向列裝置、和一個後配列雙穩態向列式裝置所組成的一個群組。
[5] 一種反射型顯示器裝置，其包含：一個內含一種染料之液晶；和一個像素結構，其在晶元間隙內包含有該液晶，其方式係使該晶元寬度對該液晶之螺旋間距的比率大於0.8，其中：該像素結構可對該液晶材料，提供一個第一傾斜狀態和一個第二傾斜狀態，彼等在無電場施加下會很穩定；在該第一傾斜狀態中，該液晶係在一種未經扭曲之組態中；以及在該第二傾斜狀態中，該液晶係在一種扭曲之組態中，以及該染料具有一個有效吸光率，其係高於該染料於該液晶在該第一傾斜狀態中時之有效吸光率。
[6] 如申請專利範圍第5項之裝置，其中，該像素結構係選自由一個天頂雙穩態裝置、一個電泳粒子受控式向列裝置、和一個後配列雙穩態向列式裝置所組成的一個群組。
[7] 如申請專利範圍第5或6項之裝置，其中，該液晶包含一個向列液晶，以及進一步包含一個對掌添加劑。
[8] 如申請專利範圍第5至7項任一項之裝置，其中，該螺旋間距對該晶元寬度之比率，係在0.9與1.1間之範圍內。
[9] 如申請專利範圍第5至8項任一項之裝置，其中，該像素結構包含：一個第一薄層，其具有一個可提供該液晶之垂直配向固位的表面；和一個第二薄層，其具有一個經樣式化可使該等第一和第二傾斜狀態在無電場施加下很穩定之表面。
[10] 如申請專利範圍第9項之裝置，其中，該第二薄層之表面包含一個微結構。
[11] 如申請專利範圍第5或8項任一項之裝置，其中，該像素結構包含：一個第一薄層，其具有一個可提供該液晶之垂直配向固位的表面；和一個第二薄層，其具有一個可提供該液晶之平行配向固位的表面；和一些在該液晶中之電泳粒子。
[12] 如申請專利範圍第5至8項任一項之裝置，其中，該像素結構包含一個第一表面和一個第二表面，彼等係呈非對稱性，其中，該第一表面帶給該液晶之配列，係不同於該第二表面帶給該液晶之配列。
[13] 一種方法，其包括：在一個像素結構之間隙內，設置一個包含某一染料之液晶；以及施加一個電場，使該像素結構中之液晶，自一個第一穩定傾斜狀態，切換至該第二穩定傾斜狀態，其中：在該第一穩定傾斜狀態中，該液晶係在一種未經扭曲之組態中；以及在該第二穩定傾斜狀態中，該液晶係在一種扭曲組態中，以及該染料具有一個有效吸光率，其係高於該染料於該液晶在該第一穩定狀態中時之有效吸光率。
[14] 如申請專利範圍第13項之方法，其中，該液晶具有一種螺旋間距，其方式係使該像素結構之晶元寬度對該液晶之螺旋間距的比率大於0.8。
[15] 如申請專利範圍第13或14項之方法，其中，在該第二傾斜狀態中，該液晶中之染料可就光波吸收，建立一個印記樣式。

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